| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于曝光装置的支承装置(40)，该支承装置(40)的支承面(42a)的排气槽(42b)以不与扫描方向平行的方式相对于曝光区域倾斜。因此，平行光束(20)不会受排气槽(42b)反射后的返回光的影响成了条纹状并出现在工件基板(1A)上，从而可进行稳定的均匀曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN101410761A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
| 申请号 | CN200780010788.2 | 申请日期 | 2007.05.28 |
| 申请人 | 日本精工株式会社 | 发明人 | 佐藤俊德;佐治伸仁;中村刚 |
| 分类号 | G03F7/22(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨本良;文 琦 |
| 主权项 | 1、一种支承装置，所述支承装置相对于支承面，通过流体支承沿规定方向扫描且曝光的工件基板，其特征在于：在所述支承面上设有朝向所述工件基板喷出流体的喷出部和回收自所述喷出部喷出的流体的回收部，所述回收部含有与所述工件基板的扫描方向非平行地延伸的排气槽。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||