| 发明名称 | 一种软磁薄膜及制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用于磁记录的写磁头的磁性薄膜材料及这种材料的制备方法。本发明的软磁薄膜材料是在基层材料上有包括铁钴成份的磁性薄膜，其中薄膜的铁钴磁性成份中掺杂有质量比大于零、小于或等于5％的铝、氧和碳元素。本发明的制备方法是采用溅射工艺制备，所用的溅射靶成分与拟溅射的磁性薄膜成分相同，溅射气体为Ar，在溅射靶上分别放置至少一个由三氧化二铝制备的小片和一个用纯的高分子材料制备的小片，三氧化二铝小片与高分子小片的面积和与溅射靶的溅射总面积的比为0.060～0.075。 | ||
| 申请公布号 | CN101409135A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
| 申请号 | CN200810145591.6 | 申请日期 | 2008.07.29 |
| 申请人 | 兰州大学 | 发明人 | 王璇;郑富;刘曦;刘朝阳;魏福林 |
| 分类号 | H01F10/16(2006.01)I;H01F10/14(2006.01)I;H01F41/18(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | H01F10/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 张 晋 |
| 主权项 | 1、一种软磁薄膜材料，在基片材料上有包括铁钴成份的磁性薄膜，其特征是薄膜的铁钴磁性成份中掺杂有质量比大于零、小于或等于5％的铝、氧和碳元素。 | ||
| 地址 | 730000甘肃省兰州市天水南路222号 | ||