发明名称 结合滑动与斜立之壳体结构
摘要
申请公布号 TWM354981 申请公布日期 2009.04.11
申请号 TW097220152 申请日期 2008.11.10
申请人 英业达股份有限公司 INVENTEC CORPORATION 台北市士林区后港街66号 发明人 黄士荣
分类号 H05K5/00 (2006.01) 主分类号 H05K5/00 (2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种结合滑动与斜立之壳体结构,包含:一第一壳体;一第二壳体,设置有一开口与一凹槽,该凹槽系设置于该第二壳体面对该第一壳体之一面,该开口具有一导引弧面;一滑动件,组装于该第一壳体,该滑动件包含突出于该滑动件之一旋转弧面,该旋转弧面为凸向该第二壳体;以及一摩擦挡片,固定在该第二壳体较远离该第一壳体之一面,其中该旋转弧面为沿着该导引弧面伸入该开口,并与该摩擦挡片接触。2.如申请专利范围第1项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,更包含一钮簧,连接该第一壳体与该滑动件,使该第一壳体相对于该滑动件滑动。3.如申请专利范围第2项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该旋转弧面为突出于该滑动件之一第一端,该钮簧之一端为固定在该滑动件之一第二端。4.如申请专利范围第3项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该凹槽具有一倾斜斜面。5.如申请专利范围第4项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该第一壳体具有一第一端与一第二端,当该第一壳体之该第二端被掀起时,该第一壳体之该第一端系由该倾斜斜面支撑,该旋转弧面系压制在该摩擦挡片与该导引弧面之间,以定位该第一壳体于一斜立位置。6.如申请专利范围第4项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该倾斜斜面之一角度为20度至45度。7.如申请专利范围第1项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该旋转弧面包含一穿孔,该第二壳体包含延伸自该导引弧面之一支架,该穿孔系穿过该支架,使该滑动件与该第二壳体卡合。8.如申请专利范围第7项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,更包含复数个螺丝,该些螺丝系穿过该摩擦挡片与该支架,以固定该摩擦挡片。9.如申请专利范围第1项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该摩擦挡片之材料为金属。10.一种结合滑动与斜立之壳体结构,包含:一第一壳体,具有一第一端;一第二壳体,设置有一开口与一凹槽,该凹槽系设置在该第二壳体面对该第一壳体之一面,该凹槽具有一倾斜斜面,该开口具有一导引弧面;一滑动件,包含突出于该滑动件之一旋转弧面,该旋转弧面系凸向该第二壳体,并沿着该导引弧面伸入该开口,以与该第二壳体卡合;一钮簧,连接该滑动件与该第一壳体;以及一摩擦挡片,固定在该第二壳体较远离该第一壳体之一面,其中该旋转弧面为沿着该导引弧面伸入该开口,并与该摩擦挡片接触。11.如申请专利范围第10项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该旋转弧面为突出于该滑动件之一第一端,该钮簧之一端为固定在该滑动件之一第二端。12.如申请专利范围第10项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该倾斜斜面之一角度为20度至45度。13.如申请专利范围第10项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该旋转弧面包含一穿孔,该第二壳体包含延伸自该导引弧面之一支架,该穿孔系穿过该支架,使该滑动件与该第二壳体卡合。14.如申请专利范围第13项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,更包含复数个螺丝,该些螺丝系穿过该摩擦挡片与该支架,以固定该摩擦挡片。15.如申请专利范围第10项所述之结合滑动与斜立之壳体结构,其中该摩擦挡片之材料为金属。图式简单说明:第1A图至第1D图系绘示本新型之结合滑动与斜立之壳体结构组装时不同阶段的局部示意图。第2A图至第2C图系绘示本新型之结合滑动与斜立之壳体结构一较佳实施例之不同状态的实施示意图。
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