发明名称 滑盖机构
摘要
申请公布号 TWM354980 申请公布日期 2009.04.11
申请号 TW097219370 申请日期 2008.10.30
申请人 昇姿企业有限公司 台北市内湖区星云街15巷39号 发明人 林伯谦
分类号 H05K5/00 (2006.01) 主分类号 H05K5/00 (2006.01)
代理机构 代理人 吴家业 台北市中正区青岛东路5号7楼
主权项 1.一种滑盖结构,该滑盖结构包含:一第一壳体,该第一壳体具有一第一表面与两个第一滑动侧壁,该每个第一滑动侧壁分别形成于该第一表面之两侧边的相对位置上;一第二壳体,该第二壳体具有一第二表面与两个第二滑动侧壁,该每个第二滑动侧壁系分别形成于其该第二表面之两侧边的相对位置上,其中,该第一壳体之该两个第一滑动侧壁的外表面系与该第二壳体之该两个第二滑动侧壁的内表面相互接合以便于彼此相互滑动,并形成一容置空间;与一容纳于该容置空间中之滑动元件,该滑动元件之一表面具有至少一个顶立元件,该至少一个顶立元件之底部系与该第二壳体之该第二表面之内表面相互接触以使得该第一壳体与该第二壳体于相互滑动时形成该第一壳体之上顶力量。2.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之第一壳体的该第一表面更包含一第一档面与一第二档面,该第一档面与该第二档面系形成于该第一表面之其他侧边的彼此相对之位置上。3.如申请专利范围第2项所述之滑盖结构,其中上述之第一档面之高度约小于该第二档面。4.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之第一壳体之该第一表面的外表面上具有至少一凸出图案,以便于增加摩擦力进而增加该第一壳体的外推力道。5.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之滑盖结构更包含:至少一凹形区,该至少一凹形区系位于该第一壳体之该两第一滑动侧壁的外表面上;至少一凸块,该至少一凸块系位于该滑动元件之相对位置的两侧边,该至少一凸块系与该第一壳体之该至少一凹形区外观与尺寸约为相当,以便于该滑动元件能藉由该至少一凸块与该至少一凹形区的紧密接合固接于该第一壳体之该两个第一滑动侧壁上,藉此可使得该滑动元件随着该第一壳体的滑动而运动。6.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之滑盖结构更包含:至少一个凸点,该至少一个凸点系位于该第一壳体之两第一滑动侧壁的外表面上;至少一个引入凹槽,该至少一个引入凹槽系位于该第二壳体之该第二滑动侧壁的内表面上;与一滑动沟槽,该滑动沟槽系位于该第二壳体之该第二滑动侧壁的内表面上。7.如申请专利范围第6项所述之滑盖结构,其中上述之滑动沟槽更包含至少一固定凸槽,以容纳该第一滑动侧壁之该至少一个凸点,并藉此固定且停止该第一壳体与该第二壳体的相对运动。8.如申请专利范围第6项所述之滑盖结构,其中上述之滑动沟槽更包含至少一引入凸槽,该至少一引入凸槽系与该至少一个引入凹槽数量与尺寸相符,且位置相对,藉此可引导该至少一个凸点依序经由该至少一个引入凹槽与该至少一引入凸槽卡入该滑动沟槽中。9.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之滑动元件之材质具有刚性与弹性之物理性质。10.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件系直接从该滑动元件之一表面镂刻挖起而形成。11.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一圆头。12.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一椭圆头。13.如申请专利范围第1项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一上凹汤匙头。14.一种滑盖结构,该滑盖结构包含:一具有两个第一滑动侧壁之第一壳体;一具有两个第二滑动侧壁之第二壳体,该第一壳体之该两个第一滑动侧壁的外表面系与该第二壳体之该两个第二滑动侧壁的内表面相互接合以便于彼此相互滑动;与一容纳于该第一壳体与该第二壳体之间的滑动元件,该滑动元件之一表面具有至少一个顶立元件,该至少一个顶立元件之底部系与该第二壳体之内表面相互接触以使得该第一壳体与该第二壳体于相互滑动时形成该第一壳体之上顶力量。15.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之滑盖结构更包含:至少一凹形区,该至少一凹形区系位于该第一壳体之该第一滑动侧壁的外表面上;至少一凸块,该至少一凸块系位于该滑动元件之一侧边,该至少一凸块系与该第一壳体之该至少一凹形区外观与尺寸约为相当,以便于该滑动元件能藉由该至少一凸块与该至少一凹形区的紧密接合固接于该第一壳体之该两个第一滑动侧壁上,藉此可使得该滑动元件随着该第一壳体的滑动而运动。16.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之滑动元件之材质具有刚性与弹性之物理性质。17.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件系直接从该滑动元件之一表面镂刻挖起而形成。18.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一圆头。19.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一椭圆头。20.如申请专利范围第14项所述之滑盖结构,其中上述之至少一个顶立元件的外观形状系为一上凹汤匙头。21.一种具有一电子元件之滑盖结构,该具有该电子元件之滑盖结构包含:一具有一第一表面之第一壳体,该第一表面具有一第一档面、一第二档面与两个第一滑动侧壁,该每个第一滑动侧壁分别形成于该第一表面之两侧边的相对位置上,且该第一档面与该第二档面系形成于该第一表面之其他侧边的彼此相对之位置上,该第一壳体之该第一滑动侧壁的外表面上具有复数个凹形区与复数个个凸点;一第二壳体,该第二壳体具有一第二表面与两个第二滑动侧壁,该每个第二滑动侧壁系分别形成于其该第二表面之两侧边的相对位置上,其中,该第一壳体之该两个第一滑动侧壁的外表面系与该第二壳体之该两个第二滑动侧壁的内表面相互接合以便于彼此相互滑动,并形成一容置空间,且该第二壳体之该第二滑动侧壁的内表面上具有复数个引入凹槽与一滑动沟槽;与一容纳于该容置空间中之滑动元件,该滑动元件之一表面具有复数个顶立元件,该复数个顶立元件之底部系与该第二壳体之该第二表面之内表面相互接触以使得该第一壳体与该第二壳体于相互滑动时形成该第一壳体之上顶力量。22.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之第一档面之高度约小于该第二档面。23.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之第一壳体之该第一表面的外表面上具有至少一凸出图案,以便于增加摩擦力进而增加该第一壳体的外推力道。24.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之滑动沟槽更包含至少一固定凸槽,以容纳该第一滑动侧壁之该至少一个凸点,并藉此固定且停止该第一壳体与该第二壳体的相对运动,且显露出该电子元件的传输端。25.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之滑动沟槽更包含复数个引入凸槽,藉此可引导该复数个凸点依序经由该复数个引入凹槽与该复数个引入凸槽卡入该滑动沟槽中。26.如申请专利范围第25项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之复数个引入凸槽系与该复数个引入凹槽以及该复数个凸点,数量与尺寸相符,且位置相对。27.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之滑动元件之材质具有刚性与弹性之物理性质。28.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之复数个顶立元件系直接从该滑动元件之一表面镂刻挖起而形成。29.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之复数个顶立元件的外观形状系为一圆头。30.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之复数个顶立元件的外观形状系为一椭圆头。31.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之复数个顶立元件的外观形状系为一上凹汤匙头。32.如申请专利范围第21项所述之具有一电子元件之滑盖结构,其中上述之电子元件系位于该滑动元件与该第一壳体之该第一表面的内表面之空间中。图式简单说明:第一A图与第一B图所示系为本新型之先前技术示意图;第二A图所示系为根据本新型之一实施例的完整结构图;第二B图所示系为根据本新型之一实施例的分解结构图;第二C图所示系为根据本新型之一实施例的滑动元件示意图;第二D图与第二E图所示系为根据本新型之一实施例的顶立元件之示意图;与第三A图与第三B图所示系为根据本新型之一实施例的使用示意图。
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