发明名称 |
Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie |
摘要 |
Ein optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv der Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterelementen, ist mit einer optischen Achse (z) und mit wenigstens einem optischen Element (8), das in einer Fassung (9) angeordnet und das mit Verstellelementen versehen ist, versehen. Das optische Element (8) ist mit einem drehbaren Tragring (12) über wenigstens ein am Tragring (12) angeordnetes Verbindungsglied (13) direkt oder über ein oder mehrere Zwischenelemente (14, 15) mit dem optischen Element (8) verbunden. Der drehbare Tragring (12) ist gegenüber einer feststehenden Außenfassung (9) mittels einer Verdreheinrichtung (16) um eine optische Achse (z) frei drehbar gelagert.
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申请公布号 |
DE102007047109(A1) |
申请公布日期 |
2009.04.09 |
申请号 |
DE200710047109 |
申请日期 |
2007.10.01 |
申请人 |
CARL ZEISS SMT AG |
发明人 |
KUGLER, JENS;SCHWERTNER, TILMAN |
分类号 |
G02B7/00;G02B7/02;G02B13/00;G03F7/20 |
主分类号 |
G02B7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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