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Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940), welche eine Vielzahl von Spiegeleinheiten (141, 142, 143, 341, 342, 343, 541, 542, 543) aufweist, wobei diese Spiegeleinheiten zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (60, 140, 340, 540, 940) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, und wenigstens einem in Lichtausbreitungsrichtung vor der Spiegelanordnung angeordneten doppelbrechenden Element (50, 130, 330, 530, 930).
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