| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Membranelement für eine optische Vorrichtung in der Lithographie, insbesondere der EUV (Extrem Ultra Violett)-Lithographie, mit mindestens einer Membranschicht und einem Rahmen, der die Membranschicht zumindest teilweise umgibt und an dem zumindest ein Teil des Randes der Membranschicht gelagert ist, wobei mindestens ein Spannelement vorgesehen ist, welches ein Spannen der Membranschicht ermöglicht und wobei das optische Membranelement in einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere für die EUV-Lithographie derart eingesetzt werden kann, dass die Membranschicht des Membranelements einstellbar gespannt wird, so dass die Membranschicht eben ist und wobei ein Verfahren zur Herstellung eines entsprechenden optischen Membranelements vorgesehen ist, bei welchem ein Spannelement zusammen mit der Membranschicht lithographisch erzeugt wird.</p> |
