| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme eines Objektes, bevorzugt einer Photolithographiemaske (1), wobei die Aufnahemvorrichtung mindestens eine Auflagefläche (8) aufweist, auf der das Objekt aufliegt und wobei das Objekt mindestens eine durch eine oder mehrere Kanten (4) begrenzte, optisch wirksame Fläche (2) aufweist, die in der Aufnahmevorrichtung im wesentlichen nach unten weist. Bei einer solchen Aufnahmevorrichtung schließt die mindestens eine Auflagefläche (8) mit der optisch wirksamen Fläche (2) einen von Null verschiedenen Winkel (alpha) derart ein, daß das Objekt nur an den Kanten (4) der optisch wirksamen Fläche (2) auf der mindestens einen Auflagefläche (8) aufliegt.
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