| 发明名称 | 涂层-基体界面激光预处理质量的无损检测方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种涂层-基体界面激光预处理质量的无损检测方法，其具体步骤为：用激光束对基体表面进行微熔处理，建立指定激光工艺条件下的基体表面微熔状态的标准图谱以及基体表面微熔区宽度与激光硬化区深度之关系，不同工件激光处理效果及其一致性通过与标准图谱的实时对比加以控制，基体最大激光硬化深度则通过测定表面微熔区宽度并根据其与激光硬化区深度的关系予以确定。本发明涂层基体界面激光预处理质量无损检测方法，可以通过对表面激光预处理状态的控制和测量及其与标准图谱的对比，直接评价基体激光预处理效果和质量，无需破坏工件对激光处理区域进行解剖和制作金相试样。 | ||
| 申请公布号 | CN101403685A | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200810226408.5 | 申请日期 | 2008.11.10 |
| 申请人 | 中国科学院力学研究所 | 发明人 | 陈光南;吴臣武;张坤;罗耕星 |
| 分类号 | G01N21/00(2006.01)I;G01B11/22(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 尹振启 |
| 主权项 | 1.一种涂层-基体界面激光预处理质量的无损检测方法，具体步骤为：建立指定激光工艺条件下的基体表面微熔状态的标准图谙，然后对待测基体的表面进行激光预处理，对激光处理过程实时监测并记录下图谱，激光处理过程中的图谱与标准图谱比对来控制基体表面的处理区域为微熔状态，经激光预处理后的区域呈现规则的月牙形，根据月牙形区域的弦长计算出处理区域的深度，建立基体表面微熔区宽度与激光硬化区深度之关系，根据激光硬化区深度判断经激光预处理后的金属基体与其上沉积的后续涂镀层之间界面的强韧性 | ||
| 地址 | 100190北京市海淀区北四环西路15号 | ||