| 发明名称 | 光强调整结构及应用其的扩散膜 | ||
| 摘要 | 一种光强调整结构，用以设置在一背光模块的一扩散膜中。光强调整结构包括一珠体与一光强调整剂。光强调整剂设置在珠体，用以改变一光线中的至少一特定波长的强度。 | ||
| 申请公布号 | CN201218892Y | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200820112613.4 | 申请日期 | 2008.04.17 |
| 申请人 | 达方电子股份有限公司 | 发明人 | 黄弘毅;李祈煌 |
| 分类号 | G02F1/13357(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/13357(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 魏晓刚 |
| 主权项 | 1.一种光强调整结构，用以设置在一背光模块的一扩散膜中，其特征在于，该光强调整结构包括：一珠体；以及一光强调整剂，设置于该珠体，用以改变一光线中的至少一特定波长的强度。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||