发明名称 |
非挥发性存储器及其制造方法与操作方法 |
摘要 |
一种非挥发性存储器,是由基底、选择栅极、掺杂区、控制栅极与浮置栅极所构成的。基底中具有一沟槽。选择栅极设置于沟槽中,且选择栅极的表面低于基底表面。掺杂区设置于沟槽下方的基底中。控制栅极设置于选择栅极上。浮置栅极设置于选择栅极与控制栅极之间,且位于沟槽顶端两侧的边角处。 |
申请公布号 |
CN100477232C |
申请公布日期 |
2009.04.08 |
申请号 |
CN200610005893.4 |
申请日期 |
2006.01.19 |
申请人 |
力晶半导体股份有限公司 |
发明人 |
王炳尧;杨立民 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯 宇 |
主权项 |
1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底中具有至少沟槽;至少选择栅极,设置于该沟槽中,且该选择栅极的表面低于该基底表面;至少第一掺杂区,设置于该沟槽下方的该基底中;控制栅极,设置于该选择栅极上;以及多个浮置栅极,设置于该选择栅极与该控制栅极之间,分别位于各该沟槽顶端两侧的边角处。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |