发明名称 非挥发性存储器及其制造方法与操作方法
摘要 一种非挥发性存储器,是由基底、选择栅极、掺杂区、控制栅极与浮置栅极所构成的。基底中具有一沟槽。选择栅极设置于沟槽中,且选择栅极的表面低于基底表面。掺杂区设置于沟槽下方的基底中。控制栅极设置于选择栅极上。浮置栅极设置于选择栅极与控制栅极之间,且位于沟槽顶端两侧的边角处。
申请公布号 CN100477232C 申请公布日期 2009.04.08
申请号 CN200610005893.4 申请日期 2006.01.19
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 王炳尧;杨立民
分类号 H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯 宇
主权项 1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底中具有至少沟槽;至少选择栅极,设置于该沟槽中,且该选择栅极的表面低于该基底表面;至少第一掺杂区,设置于该沟槽下方的该基底中;控制栅极,设置于该选择栅极上;以及多个浮置栅极,设置于该选择栅极与该控制栅极之间,分别位于各该沟槽顶端两侧的边角处。
地址 中国台湾新竹市