发明名称 一种光谱阶跃式集成滤光片的制作方法
摘要 本发明公开了一种光谱阶跃式集成滤光片的制作方法,本发明结合真空镀膜技术和图形掩模工艺,实现多通道带通滤光片于同一基片的集成。该集成滤光片制作工艺简单,成品率高,可以与探测器的像元相匹配,构成高光谱成像光谱仪,能广泛用于航空航天遥感仪器的多(高)光谱密集获取。本发明的多通道光谱阶跃式集成滤光片具有的优点是:采用组合套镀的方法,成品率较传统的逐一集成的滤光片有很大提高;可以在微小区域形成多个光谱通道,能够实现空间位置和光谱位置的准确定位,易于实现高光谱。
申请公布号 CN101403805A 申请公布日期 2009.04.08
申请号 CN200810202260.1 申请日期 2008.11.05
申请人 中国科学院上海技术物理研究所 发明人 段微波;刘定权;张凤山
分类号 G02B5/20(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 G02B5/20(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 郭 英
主权项 1.一种光谱阶跃式集成滤光片的制作方法,其特征在于:它包括以下步骤:A.下反射堆(2)薄膜层制备:采用常规的真空镀膜工艺在基底(1)上制备(HL)^a 2bH下反射堆(2)膜系;B.间隔层(3)制备:采用机械掩模套镀法制备间隔层,具体方法为:用金属或合金材料制作成的图形掩膜板来限定镀膜过程中薄膜的沉积区域,后一块掩模板总是遮挡掉前一块掩模板的镀膜区和非镀膜区的一半区域,通过n块掩模板的套镀,即可形成2n个台阶的间隔层(3);C.上反射堆(4)薄膜层制备:根据步骤A的方法在形成台阶的间隔层(3)上继续制备(HL)^a膜系形成上反射堆(4),从而完成光谱阶跃式集成滤光片制作。
地址 200083上海市玉田路500号
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