本底硅的测量方法

摘要

本发明公开了一种本底硅的测量方法，其步骤包括：进行零点值测量，用倒加药得显色溶液，零点值的显色溶液的硅浓度为0，电压值V0；配制两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2，溶液浓度分别为C1、C2；标液1、标液2分别作显色操作，再根据光电比色原理进行测量，并分别测量电压值V1、V2；经过计算，得出本底硅的浓度为X。用于测量的仪器为光度计，显色溶液中二氧化硅浓度越高，所测得的电压值越低。用此方法能够较精准地测量出无硅水中本底硅的浓度，精确了已知浓度二氧化硅的标准溶液的实际浓度，在二氧化硅浓度分析中对二氧化硅含量测得的结果更为精确；且本方法操作简单，精确度高。

主权项

1、一种本底硅的测量方法，其特征在于，包括有下列步骤：a、进行零点值测量，即：取适量的待测无硅水，用倒加药的方式处理，得到所述零点值的显色溶液，该零点值的显色溶液的硅浓度为0，再用光度计对所述零点值的显色溶液进行测量，得到数据：输出电压值为V0；b、取步骤a中同样的无硅水，用同一种母液分别配置两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2；浓度分别为C1、C2。c、将标液1及标液2分别作显色操作处理，得到所述标准溶液的显色溶液再用所述光度计对所述两种标准溶液的显色溶液进行测量，得到的电压分别为V1、V2；d、根据光电比色原理，利用测得的数据及公式$X=\frac{(V0-V1)*(C2-C1)}{V1-V2}-C1$计算出所述待测无硅水中本底硅的浓度为X。