使用适应性多元分析诊断处理系统的方法和系统

摘要

一种监视处理系统的方法和系统，所述处理系统用于在半导体制造过程期间处理衬底。从所述处理系统获取多次观察的数据(510)，所述数据包括多个数据参数。从所述数据构建主成分分析(PCA)模型，所述模型包括中心化系数(520)。从所述处理系统获取附加数据(550)，所述附加数据包括所述多个数据参数的附加观察。调整所述中心化系数以产生用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个的更新后的适应性中心化系数。将所述更新后的适应性中心化系数应用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个(560)。利用所述PCA模型从所述附加数据确定至少一个统计量(560)。设置用于所述统计量的控制限度(570)，并将所述统计量与所述控制限度相比较(580)。

主权项

1.一种监视用于在半导体制造过程期间处理衬底的处理系统的方法，包括：根据已在所述处理系统中执行工艺的第一组衬底运行过程从所述处理系统获取多次观察的初始数据，所述初始数据包括多个数据参数；从所述第一组数据参数构建主成分分析模型，所述主成分分析模型包括用于来自第一组的初始数据的中心化系数；在所述构建步骤之后根据在所述处理系统中执行所述工艺的第二组衬底运行过程从所述处理系统获取附加数据，所述附加数据包括所述多个数据参数的附加观察；在来自所述第二组的附加数据的每次观察时，利用所述初始数据和从来自在所述第二组中执行的工艺的附加观察获得的当前数据两者来调整所述中心化系数，以产生用于所述主成分分析模型中所述数据参数的每一个的更新后的适应性中心化系数；将所述更新后的适应性中心化系数应用于由所述第一组衬底运行过程创建的且未改变的所述主成分分析模型中所述数据参数的每一个；利用所述主成分分析模型和已被所述更新后的适应性中心化系数中心化的附加数据的组合来确定至少一个统计量；设置用于所述至少一个统计量的控制限度；将所述至少一个统计量与所述控制限度相比较，以确定在所述第二组的制造过程期间所述衬底处理是否仍保持在控制内；以及提供评估正在所述处理系统中执行的工艺的输出。