| 发明名称 | 放置台结构以及具有该放置台结构的热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种热处理装置，将被处理体(W)放置在经由支柱而从处理容器(4)的底部立起并在内部埋入有加热装置(38)的放置台(32)的上面，对该被处理体进行规定热处理，其中，在上述放置台的上面、侧面和下面分别设置有具有耐热性的盖部件(72、73、76)。因此，可以防止成为污染原因的金属原子等从放置台热扩散情况的发生，从而，可以防止金属污染或者有机污染等的各种污染的发生。 | ||
| 申请公布号 | CN100477087C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200480009294.9 | 申请日期 | 2004.04.07 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 川崎裕雄;岩田辉夫;纲仓学 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种放置台结构，其特征在于，包括：放置台，具有为了在处理容器内、对被处理体进行规定的热处理而放置所述被处理体，并同时加热所述被处理体的加热装置；和从所述处理容器的底部立起而支撑该放置台的支柱，其中，在所述放置台的上面、侧面和下面分别设置有具有耐热性的上面盖部件、侧面盖部件和下面盖部件，同时，设置有与所述放置台的下面接触的具有耐热性的不透明背面盖部件，所述下面盖部件设置在所述不透明背面盖部件的下面。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||