发明名称 电光装置、其制造方法、电子设备以及电容器
摘要 本发明的电光装置,使保持电容大,可进行高质量的图像显示,在基板上,具备:相互进行交叉的多条扫描线及多条数据线;对应于多条扫描线和多条数据线的交叉处所设置的多个像素电极;和叠层有一对电极及电介质膜的存储电容。还具备:由设置于贯通一对电极的一方及电介质膜而开口的开口部的内侧壁上的第1绝缘膜所构成的侧壁;和从一对电极的另一方看,相对于前述一方配置于相反侧,通过与侧壁自对准性地同时形成、被侧壁所包围的自对准接触孔,而与另一方电连接的第1导电膜。
申请公布号 CN100477237C 申请公布日期 2009.04.08
申请号 CN200610153878.4 申请日期 2006.09.14
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 石井达也
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 陈海红;段承恩
主权项 1.一种电光装置,其特征在于,在基板上,具备:相互进行交叉的多条扫描线及多条数据线;对应于前述多条扫描线和前述多条数据线的交叉处所设置的多个像素电极;叠层有一对电极及电介质膜的存储电容;由第1绝缘膜构成的侧壁,该第1绝缘膜设置于贯通前述一对电极的一方及前述电介质膜而开口的开口部的内侧壁上;和第1导电膜,其从前述一对电极的另一方看,相对于前述一对电极的一方配置于相反侧,通过与前述侧壁自对准性地同时形成的、被前述侧壁所包围的自对准接触孔,与前述一对电极的另一方电连接。
地址 日本东京都