| 发明名称 | 防反射薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×10<sup>12</sup>Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。 | ||
| 申请公布号 | CN100476458C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200580046098.3 | 申请日期 | 2005.12.28 |
| 申请人 | 琳得科株式会社 | 发明人 | 所司悟;小野泽丰;富冈健太 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的至少一面上，从上述基材薄膜侧依次具有含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的分子内具有1个以上季铵盐基的阳离子类防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且该防反射薄膜表面电阻率为5×1012Ω以下。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||