发明名称 电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材
摘要 本发明提供电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材,能够得到在被处理物的大致全长上均匀的膜厚分布、并且能够谋求提高靶材材料成品率和降低靶材制造成本。因此,在真空室(1)内配置至少能够分割为长度方向两端部(31)、(32)和其以外的部(33)的靶材(3)和被处理物。在保护膜形成时,控制靶材表面的电弧斑点位置以使长度方向两端部(31)、(32)的消耗速度比部(33)的消耗速度快,并且靶材(3)的部(33)达到消耗极限之前,在长度方向两端部(31)、(32)的至少一个达到消耗极限的时刻,仅交换该端部并继续进行膜的形成。
申请公布号 CN101405428A 申请公布日期 2009.04.08
申请号 CN200780009961.7 申请日期 2007.03.06
申请人 株式会社神户制钢所 发明人 藤井博文
分类号 C23C14/32(2006.01)I 主分类号 C23C14/32(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 闫小龙;刘宗杰
主权项 1.一种用于使用靶材在被处理物的表面形成保护膜的电弧离子镀方法,其中,包括:配置步骤,在真空室内配置至少能够分割为长度方向两端部和其以外的中央部的靶材、和被处理物;保护膜形成步骤,利用将所述靶材作为阴极的真空电弧放电,使构成该靶材的物质蒸发并且离子化,将由该离子化产生的靶材物质离子引导到所述被处理物,从而形成保护膜,在所述保护膜形成步骤中,以所述长度方向两端部的消耗速度比所述中央部的消耗速度快的方式控制所述靶材表面的电弧斑点位置,并且,在所述靶材的中央部达到消耗极限之前,在所述长度方向两端部的至少一个达到消耗极限的时刻,仅交换该端部,并继续进行保护膜形成。
地址 日本兵库县