| 发明名称 | 用于在双镶嵌应用中蚀刻底部抗反射涂覆层的方法 | ||
| 摘要 | 提供一种以两个步骤蚀刻双镶嵌结构中的BARC层的方法。在一个实施例中，该方法包括在蚀刻反应器中提供具有过孔的衬底，该过孔填充有沉积在衬底上的BARC层，将第一气体混合物供应到反应器以蚀刻填充在过孔中BARC层的第一部分，并将包括NH<sub>3</sub>气体的第二气体混合物供应到反应器中以蚀刻沉积在过孔中的BARC层的第二部分。 | ||
| 申请公布号 | CN101405234A | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200780010228.7 | 申请日期 | 2007.03.14 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 肖莹;格拉多·A·戴戈迪诺;卡斯特恩·施奈德 |
| 分类号 | C03C25/68(2006.01)I;H01L21/461(2006.01)I | 主分类号 | C03C25/68(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵 飞;南 霆 |
| 主权项 | 1.一种用于蚀刻双镶嵌结构中的BARC层的方法，包括：在蚀刻反应器中提供具有过孔的衬底，所述过孔填充有BARC层，所述BARC层沉积在所述衬底上；将第一气体混合物供应到所述反应器中以蚀刻填充所述过孔的所述BARC层的第一部分；并且将包括NH3气体的第二气体混合物供应到所述反应器中以蚀刻沉积在所述过孔中的所述BARC层的第二部分。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||