发明名称 |
利用光学瓦片的浮雕成像 |
摘要 |
本发明涉及引导光到观察者用于表现图像的结构。为了表现一个图像,提供一种包括多个瓦片单元(22)的结构,当光源照射时,每个瓦片单元引导一定光量到观察位置的观察者,该光量与瓦片单元的取向角有关。基于图像中对应像素的视觉特征,可以选取每个瓦片单元(22)的取向角,因此,观察者看到由瓦片单元(22)引导变化的光量到观察位置产生的图像表示。 |
申请公布号 |
CN100476499C |
申请公布日期 |
2009.04.08 |
申请号 |
CN200580020785.8 |
申请日期 |
2005.06.21 |
申请人 |
艺术科学魁恩传媒公司 |
发明人 |
罗德瑞克·T·奎恩 |
分类号 |
G02B26/08(2006.01)I;G09F9/37(2006.01)I;G02B26/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
1.一种用于表现有多个像素的图像的结构,该结构包括:互相之间保持固定关系的多个瓦片单元,每个瓦片单元包括以相对于参考平面的倾斜角倾斜的平坦表面,每个瓦片单元对应于图像中的至少一个像素,并有相对于光源的光入射到结构上的照射方向的取向角,该取向角的定义是:垂直于平坦表面的直线在参考平面上的投影和平行于照射方向的直线在参考平面上的投影之间的夹角,其中该取向角由对应的至少一个像素的亮度确定,和具有表面的基片,其中多个像素单元耦合到基片表面,其中每个瓦片单元还包括从基片表面突出的凸出物。 |
地址 |
加拿大不列颠哥伦比亚省 |