| 发明名称 | 高压处理方法及高压处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种高压处理方法及高压处理装置，使用高压流体而对被处理体施予高压处理，其中，将所述高压流体冲撞到配置在高压处理室内的所述被处理体表面上之后，沿其表面流到该被处理体外边。 | ||
| 申请公布号 | CN100477074C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200310102886.2 | 申请日期 | 2003.10.22 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所;大日本屏影象制造株式会社 | 发明人 | 吉川哲也;井上阳一;渡边克充;增田薰;饭岛胜之;岩田智巳;村冈祐介;齐藤公;沟端一国雄 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种高压处理方法，使用高压流体而对被处理体施予高压处理，其特征在于，所述高压流体为超临界状态或者亚临界状态的流体，将所述高压流体在分散状态下各自冲撞到配置在高压处理室内的所述被处理体表面上，以使所述高压流体的流动产生紊乱，并且对所述被处理体施予以其表面的正交轴为中心的旋转运动，以便将所述冲撞到被处理体表面上的高压流体沿所述被处理体表面流到所述被处理体外边。 | ||
| 地址 | 日本兵库县神户市 | ||