发明名称 |
利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与装置 |
摘要 |
一种利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与装置,该装置包含透镜(lens),用来将一道预设的辐射(radiation)传递至预定的产品基材上。并且一液体(fluid volume)的第一端与此透镜接触,并透过液体的第二端与产品基材接触。该方法包括:放置一基材,该基材上方具有一辐射敏感物质,并使该辐射敏感物质与一液体的第一端接触;放置至少一透镜,使该透镜与该液体的第二端接触;以及提供波长约为或小于248nm的一电磁辐射,并使一预设辐射穿过透镜而传递至一预定基材上。其中此液体具有高于10<sup>-7</sup>摩尔/升(mole/l)的氢氧根离子(hydroxide ion)摩尔浓度。 |
申请公布号 |
CN100476592C |
申请公布日期 |
2009.04.08 |
申请号 |
CN200510064380.6 |
申请日期 |
2005.04.15 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
王昭雄;曾鸿辉 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿 宁;张华辉 |
主权项 |
1、一光微影装置,其特征在于其至少包括:至少一透镜,用来将预定的辐射传递至一预定基材上,该基材上方具有一辐射敏感物质;以及一液体,该液体的第一端与该透镜直接接触,该液体的第二端与该辐射敏感物质直接接触,其中该液体具有一氢氧根离子摩尔浓度,该氢氧根离子摩尔浓度大于10-7摩尔/升,介于约10-1摩尔/升至约10-7摩尔/升之间。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号 |