首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 TEMPERATURE MEASUREMENT AND CONTROL OF WAFER SUPPORT IN THERMAL PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号 KR20100129777(A) 申请公布日期 2010.12.09
申请号 KR20107023850 申请日期 2009.03.25
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 SORABJI KHURSHED;LERNER ALEXANDER N.;RANISH JOSEPH M.;HUNTER AARON M.;ADAMS BRUCE E.;BEHDJAT MEHRAN;RAMANUJAM RAJESH S.
分类号 H01L21/683;H01L21/324 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com