制造加速度传感器的方法

摘要

本发明提供了一种制造加速度传感器的方法，其步骤如下：提供一单晶硅衬底；在单晶硅衬底上沉积绝缘层；在所述绝缘层上沉积牺牲层；利用光刻在牺牲层的表面刻蚀出若干凹槽，使所述凹槽贯穿整个牺牲层至绝缘层；在被刻蚀后的牺牲层上及凹槽内沉积多晶硅，使多晶硅表面形成与若干凹槽对应的凹孔；在两个相邻的凹孔间，用光刻刻蚀出若干间隙，从而得出所需的结构；释放牺牲层。本发明生产成本低，设计灵活。

主权项

一种制造加速度传感器的方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：A、提供一单晶硅衬底；B、在单晶硅衬底上沉积绝缘层；C、在所述绝缘层上沉积牺牲层；D、利用光刻在牺牲层的表面刻蚀出若干凹槽，使所述凹槽贯穿整个牺牲层至绝缘层；E、在被刻蚀后的牺牲层上及凹槽内沉积多晶硅，使多晶硅表面形成与若干凹槽对应的凹孔；F、在两个相邻的凹孔间，用光刻刻蚀出若干间隙，从而得出所需的结构；G、释放牺牲层。