发明名称 |
薄膜晶体管 |
摘要 |
本发明公开了一种薄膜晶体管,其包括一基板、一栅极、一栅绝缘层、一半导体层、一欧姆接触层以及一源极与一漏极。其中,栅极配置于基板上,而栅绝缘层配置于基板上,并覆盖栅极。半导体层配置于栅绝缘层上,且位于栅极上方。半导体层包括一未掺杂非晶硅层与一第一未掺杂微晶硅层,其中第一未掺杂微晶硅层则配置于未掺杂非晶硅层上。另外,掺杂微晶硅作为欧姆接触层配置于部分半导体层上,而源极与漏极则配置于欧姆接触层上。因此,本发明的薄膜晶体管具有较佳的品质控制及电性特性。 |
申请公布号 |
CN101271923B |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
申请号 |
CN200710089749.8 |
申请日期 |
2007.03.23 |
申请人 |
中华映管股份有限公司 |
发明人 |
赖钦诠;吴泉毅;蔡依芸 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/04(2006.01)I;H01L29/45(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
左一平 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:一基板;一栅极,配置于所述基板上;一栅绝缘层,配置于所述基板上,并覆盖所述栅极;一半导体层,配置于所述栅绝缘层上,并位于所述栅极上方,而所述半导体层包括:一未掺杂非晶硅层;一第一未掺杂微晶硅层,配置于所述未掺杂非晶硅层上;一掺杂微晶硅作为欧姆接触层,配置于部分所述半导体层上;以及一源极与一漏极,配置于所述欧姆接触层上。 |
地址 |
中国台湾台北市中山北路三段二十二号 |