发明名称 薄膜晶体管
摘要 本发明公开了一种薄膜晶体管,其包括一基板、一栅极、一栅绝缘层、一半导体层、一欧姆接触层以及一源极与一漏极。其中,栅极配置于基板上,而栅绝缘层配置于基板上,并覆盖栅极。半导体层配置于栅绝缘层上,且位于栅极上方。半导体层包括一未掺杂非晶硅层与一第一未掺杂微晶硅层,其中第一未掺杂微晶硅层则配置于未掺杂非晶硅层上。另外,掺杂微晶硅作为欧姆接触层配置于部分半导体层上,而源极与漏极则配置于欧姆接触层上。因此,本发明的薄膜晶体管具有较佳的品质控制及电性特性。
申请公布号 CN101271923B 申请公布日期 2010.12.08
申请号 CN200710089749.8 申请日期 2007.03.23
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 赖钦诠;吴泉毅;蔡依芸
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L29/04(2006.01)I;H01L29/45(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 左一平
主权项 一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:一基板;一栅极,配置于所述基板上;一栅绝缘层,配置于所述基板上,并覆盖所述栅极;一半导体层,配置于所述栅绝缘层上,并位于所述栅极上方,而所述半导体层包括:一未掺杂非晶硅层;一第一未掺杂微晶硅层,配置于所述未掺杂非晶硅层上;一掺杂微晶硅作为欧姆接触层,配置于部分所述半导体层上;以及一源极与一漏极,配置于所述欧姆接触层上。
地址 中国台湾台北市中山北路三段二十二号
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