基板处理装置

摘要

一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：干式处理部，其对基板实施干式处理；液处理部，其与上述干式处理部邻接配置，且具有用于对上述基板实施液处理的多个相互邻接配置的液处理工具；移动机构，其具有使上述基板从上述干式处理部到上述液处理部的各液处理工具进行相对移动的移动路径；第一帘幕形成机构，其形成用于将上述干式处理部和上述液处理部之间的包含上述移动路径的空间分隔成上述干式处理部侧和上述液处理部侧的帘幕；第二帘幕形成机构，其用于形成将上述液处理部内的相互邻接的液处理工具之间的至少一个的包含上述移动路径的空间分隔成基板移动方向上游侧和基板移动方向下游侧的液幕；上述第一帘幕形成机构具有：气幕形成部，其用于形成气幕；液幕形成部，其用于在相比上述气幕的形成位置更靠上述液处理部侧的位置处形成液幕。