发明名称 一种用多晶硅制作突变结的稳压二极管及其制造工艺
摘要 一种用多晶硅制作突变结的稳压二极管,在N型衬底抛光片上,先制作一个PN结保护环,在该PN结保护环内的N型衬底抛光片上的表面和该PN结保护环的内半边处均淀积一层多晶硅,形成一种普通PN结二极管和一个突变结二极管并联的结构的稳压二极管;其制造工艺:①在N型衬底抛光片表面制作氧化层;②光刻PN结保护环;③使用硼纸扩散方法使所述PN结保护环成为方块电阻2.5±0.5Ω/□的P型掺杂区;④淀积多晶硅层;⑤最后去除表面多余的多晶硅。本发明的稳压二极管达到了反向击穿漏电流较小,击穿后的阻抗也较小,即在较大反向电流变化范围内电压波动较小,稳压的效果更好,能够满足高标准用户的要求。
申请公布号 CN101908504A 申请公布日期 2010.12.08
申请号 CN201010223141.1 申请日期 2010.07.07
申请人 天水天光半导体有限责任公司 发明人 李昊;王林;蒲耀川;程秀芹;王轶军;张晓情;张志向
分类号 H01L21/77(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人 马英
主权项 一种用多晶硅制作突变结的稳压二极管,其特征在于:在N型衬底抛光片(3)上,先制作一个PN结保护环(6),在该PN结保护环(6)内的N型衬底抛光片(3)上的表面和该PN结保护环(6)的内半边处均淀积一层多晶硅(1),形成一种普通PN结二极管和一个突变结二极管并联的结构的稳压二极管。
地址 741000 甘肃省天水市秦州区环城西路7号