发明名称 半导体发光元件及其制造方法
摘要 半导体发光元件中设有具有发光功能的半导体衬底(2)、阳极(3)、欧姆接触区(4)、合金化阻止用的光透射层(20)、金属光反射层(5)以及导电性支持衬底(8)。所述光透射层(20)由绝缘性材料构成,并具有阻止所述半导体衬底(2)和金属光反射层(5)的合金化的作用。所述欧姆接触区(4)以可透射光的厚度形成。从所述半导体衬底(2)发出的光通过所述光透射层(20)后在所述金属光反射层(5)上反射,并通过所述欧姆接触区(4)后在所述金属光反射层(5)反射。结果提高了半导体发光元件的发光效率。
申请公布号 CN1759491B 申请公布日期 2010.12.08
申请号 CN200480006269.5 申请日期 2004.03.05
申请人 三垦电气株式会社 发明人 室伏仁;青柳秀和;武田四郎;内田良彦
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 杨凯;叶恺东
主权项 一种半导体发光元件,其特征在于设有:半导体衬底(2),其中设有对发光有贡献的多个化合物半导体层(11、12、13),且设有用以取出光的一主面(15)和该主面(15)相反侧的另一主面(16);电极(3),与所述半导体衬底(2)的一主面(15)连接;欧姆接触区(4),设于所述半导体衬底(2)的另一主面(16)的一部分上,且与所述半导体衬底(2)欧姆接触;光透射层(20),配置在所述半导体衬底(2)的另一主面(16)中未配置所述欧姆接触区(4)的部分的至少一部分上,具有使由所述半导体衬底(2)发出的光透射的功能且具有阻止或抑制所述半导体衬底(2)和金属的反应的功能;金属光反射层(5),配置成覆盖所述欧姆接触区(4)和所述光透射层(20)且具有反射从所述半导体衬底(2)发出的光的功能;以及与所述金属光反射层(5)电连接的另一电极。
地址 日本新座市