发明名称 用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法以及曝光装置和基板
摘要 本发明提供对应于必要的照度,能够抑制消耗电力并能够对光源部进行简单控制的用于曝光装置的光照射装置、其点亮控制方法、以及曝光装置和基板。光学控制部(76)在闸盒(81)内的规定数量的光源部(73)中,具备点亮的光源部(73)的数量不同的多个点亮模式组,并且各点亮模式组分别具有光源部(73)以点对称方式点亮的多个点亮模式A1~D1、A2~D2、A3~D3。此外,光学控制部(76)控制多个闸盒(81)的规定数量的光源部(73)按照相同的点亮模式以点对称方式点亮,由此,全部的光源部(73)以点对称方式点亮。
申请公布号 CN101907831A 申请公布日期 2010.12.08
申请号 CN201010139787.1 申请日期 2010.03.30
申请人 日本精工株式会社 发明人 永井新一郎;轻石修作;原田智纪
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人 陈波;杨本良
主权项 一种用于曝光装置的光照射装置,其特征在于,具备:多个光源部,该多个光源部分别包含发光部和反射光学系统,该反射光学系统使从该发光部发出的光具有指向性并射出;多个闸盒,在该多个闸盒中,可分别安装规定数量的所述光源部;框架,在该框架中,可安装该多个闸盒;以及控制部,该控制部控制所述多个光源部的点亮或熄灭,所述控制部控制所述各闸盒内的所述规定数量的光源部以点对称的方式点亮。
地址 日本东京都