发明名称 |
一种用于容器加工的烧架定位装置 |
摘要 |
本实用新型提供的一种用于容器加工的烧架定位装置,包括油缸、托架、中频线圈,所述的托架的底部设置轨道滑轮,所述轨道滑轮与导轨相适配,托架上部设置旋转滚轮组,并在旋转滚轮组所对应的另侧位置设置由调节块、调节滑轨组成的定位装置和定位旋转滚轮组,所述定位装置的前端部设置有调节块,调节块的下部设置与其相适配的调节滑轨,该装置提高了工作效率,减少了废品率,品质得到大幅度的优化,并保证了其在加工过程的安全性。 |
申请公布号 |
CN201665697U |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
申请号 |
CN201020214884.8 |
申请日期 |
2010.06.04 |
申请人 |
无锡百纳容器有限公司 |
发明人 |
李承菊;王光辉 |
分类号 |
C21D9/14(2006.01)I |
主分类号 |
C21D9/14(2006.01)I |
代理机构 |
南京众联专利代理有限公司 32206 |
代理人 |
顾进 |
主权项 |
一种用于容器加工的烧架定位装置,包括油缸(11)、托架(12)、中频线圈(31),所述的托架(12)的底部设置轨道滑轮(15),所述轨道滑轮(15)与导轨(14)相适配,其特征在于:托架(12)上部设置旋转滚轮组(13),并在旋转滚轮组(13)所对应的另一侧位置设置由调节块(22)、调节滑轨(23)组成的定位装置和定位旋转滚轮组(21),所述定位装置的前端部设置有调节块(22),调节块(22)的下部设置与其相适配的调节滑轨(23)。 |
地址 |
214112 江苏省无锡市国家高新技术开发区梅村镇锡贤路118号 |