含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物

摘要

本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Al或Al(Cu)的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二氧化硅、敏感的低-κ或高-κ电介质并镀铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其它金属。

主权项

用于从微电子基板上清洗光致抗蚀剂和等离子体工艺产生的有机或无机残余物的方法，所述微电子基板具有敏感的低 κ或高 κ电介质和选自铝、铝 铜、铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼和锡镀层的镀层，且其中相对于来自氧化剂组分的可用卤素稳定该清洁组合物，该方法包括将基板与清洗组合物接触足够的时间以从基板上清洗光致抗蚀剂或残余物，其中所述组合物包含：(a)基于组合物的总重量，0.001至30％重量的氧化剂，其选自卤素含氧酸，所述酸的盐，或其衍生物，其中所述衍生物选自卤化异氰酸酯、二氧化氯、一氧化二氯和次氯酸盐 亚磷酸盐复合物，以及对于来自氧化剂的可用卤素的稳定剂(i)，所述稳定剂选自三唑、噻唑、四唑和咪唑，基于组合物的总重量，所述稳定剂的量为0.01至0.5％重量，且将稳定剂加入产生卤素含氧酸、盐或其衍生物的反应混合物中，和(b)组分(a)的溶剂，和，任选的如下组分中的一种或多种：(c)不产生铵的碱，(d)酸，(e)金属螯合剂或络合剂，(f)增强清洗性能的添加剂，其选自儿茶酚、连苯三酚、五倍子酸、间苯二酚和无金属离子的硅酸盐稳定剂，(g)金属腐蚀抑制剂，(h)不产生铵的氟化物，和(j)表面活性剂；附带条件为当氧化剂组分(a)是烷基次氯酸盐时，组分(b)溶剂不是酰胺、砜、硒砜或饱和醇的溶剂，而且当氧化剂组分(a)是次氯酸时，清洗组合物还必须含有不产生铵的碱。