液晶显示装置阵列基板的制造方法

摘要

本发明涉及一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，包括在基板上依次沉积透明电极层和栅金属层，沉积光刻胶，采用第一掩模板进行掩模、蚀刻后，形成由栅金属层和透明电极层构成的栅线、栅电极和像素电极，去除剩余光刻胶；依次沉积栅绝缘层、非晶硅层和重掺杂非晶硅层，沉积光刻胶，采用第二掩模板进行掩模、蚀刻后，使栅绝缘层覆盖栅线并去掉像素电极上的栅金属层；沉积数据金属层，沉积光刻胶，采用第三掩模板进行掩模、蚀刻后，形成数据线，源漏电极及其间隔区域，去除剩余光刻胶。本发明通过减少掩膜板数到3次，使得总工程的容量大大增加，所用的时间缩短，产品成品率提高，从而降低产品成本。

主权项

一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，其特征在于：第一工程、基板表面依次沉积透明电极层和栅金属层，用第一掩模板蚀刻，形成由所述透明电极层和栅金属层构成的像素电极、栅线和从所述栅线分支出来的栅电极；第二工程、经过第一工程的基板表面依次沉积栅绝缘层、非晶硅层、重掺杂非晶硅层，用第二掩模板蚀刻，所述栅绝缘层覆盖住所述栅线和栅电极，所述栅电极上方残留非晶硅层和重掺杂非晶硅层，在所述像素电极上部去掉栅金属层露出所述透明电极层；第三工程、经过第二工程的基板表面沉积数据金属层，用第三掩模板蚀刻，即在数据线和源漏电极的上部形成相应的光刻胶图案，通过蚀刻工艺去掉未被光刻胶覆盖的数据金属层，形成源漏电极和数据线，所述源漏电极的间隔区域露出非晶硅层，沉积钝化层，通过剥离工艺去掉剩余光刻胶和位于光刻胶上的钝化层。