发明名称 |
提高电镀均匀性的方法 |
摘要 |
一种提高电镀均匀性的方法,将被电镀物作为阴极置于电镀槽里的电镀液中,在电镀槽里的电镀液中置放与阴极相对的阳极,在被电镀物上的被镀面与阳极之间置放一带有开窗和挡边的挡板,用挡板的挡边阻断绕过挡板边缘的电力线,消除电镀边缘效应,提高电镀层厚度的均匀性。 |
申请公布号 |
CN101054701B |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
申请号 |
CN200710037328.0 |
申请日期 |
2007.02.08 |
申请人 |
上海美维科技有限公司;上海美维电子有限公司 |
发明人 |
程凡雄;宋景勇;黄伟 |
分类号 |
C25D5/00(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I |
主分类号 |
C25D5/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海开祺知识产权代理有限公司 31114 |
代理人 |
李兰英 |
主权项 |
一种提高电镀均匀性的方法,是将被电镀物作为阴极置于电镀槽里的电镀液中,在电镀槽里的电镀液中置放与阴极相对的阳极,在被电镀物上的被镀面与阳极之间置放一带有开窗的挡板,其特征在于在挡板的边缘上置放与挡板连在一起的挡边,用挡边消除绕过挡板边缘的电力线。 |
地址 |
201600 上海市松江区松江工业区联阳路185号 |