发明名称 含有低共熔混合物的电解质及含有该电解质的电化学装置
摘要 一种电解质,包含由(a)具有特定化学式的含烷氧基烷基的酰胺化合物和(b)一种可离子化的锂盐组成的低共熔混合物。所述电解质中包含的低共熔混合物具有出色的高温稳定性和低共熔混合物的固有特性,如出色的热学稳定性和出色的化学稳定性,因此有助于增加高温稳定性,并降低电化学窗口的下限。因此,该电解质可有利地用于使用各种阳极材料的电化学装置中。
申请公布号 CN101911372A 申请公布日期 2010.12.08
申请号 CN200980102237.8 申请日期 2009.01.09
申请人 株式会社LG化学 发明人 朴志源;李秉培;吴宰丞;崔信政;朴载德;金东洙;李晓真
分类号 H01M10/40(2006.01)I 主分类号 H01M10/40(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人 钟守期;王媛
主权项 1.一种电解质,包括由下述物质组成的低共熔混合物:(a)由以下化学式1或2表示的含烷氧基烷基的酰胺化合物;和(b)一种可离子化的锂盐<u>化学式1</u><img file="FPA00001183456500011.GIF" wi="445" he="234" />其中R、R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>为氢、卤素或任意一种选自各自具有1至20个碳原子的烷基、烷基氨基、烯基和芳基的基团,R、R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>中至少一种基团为由CH<sub>3</sub>-(CH<sub>2</sub>)p-O(CH<sub>2</sub>)q表示的烷氧基烷基,其中p为一个0至8的整数且q为一个1至8的整数,并且其中X为任意一种选自碳、硅、氧、氮、磷、硫和氢的基团,其中i)当X为氢时m为0(零),ii)当X为氧或硫时m为1,iii)当X为氮或磷时m为2,以及iv)当X为碳或硅时m为3;<u>化学式2</u><img file="FPA00001183456500012.GIF" wi="489" he="259" />其中R和R<sub>1</sub>为氢或任意一种选自各自具有1至20个碳原子的烷基、烷基氨基、烯基、芳基和烯丙基的基团,R和R<sub>1</sub>中至少一个基团为由CH<sub>3</sub>-(CH<sub>2</sub>)p-O(CH<sub>2</sub>)q表示的烷氧基烷基,其中p为一个0至8的整数,q为一个1至8的整数,其中X为任意一种选自碳、硅、氧、氮、磷和硫的基团,其中i)当X为氧或硫时m为0(零),ii)当X为氮或磷时m为1,以及iii)当X为碳或硅时m为2,并且其中n为一个1至10的整数。
地址 韩国首尔