| 发明名称 |
环摆抛双面抛光机 |
| 摘要 |
本实用新型公开了一种环摆抛双面抛光机，属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂，套圈与主动轮、限位轮外切，还包括辅机座和偏心轮，上盘的上端经主臂与辅机座连接，上盘上设有辅臂，辅臂外端与偏心轮连接，偏心轮与辅机座连接。本实用新型集环抛和摆抛于一体，适用于具有透射波前和反射波前要求的大口径超薄光学元件的抛光。 |
| 申请公布号 |
CN201664871U |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
| 申请号 |
CN201020167817.5 |
申请日期 |
2010.04.20 |
| 申请人 |
成都精密光学工程研究中心;南京利生光学机械有限责任公司 |
发明人 |
杨李茗;鄢定尧;刘民才;何曼泽;欧光亮;王琳;张珑;雷华;刘义彬;刘夏来;周佩璠;蔡红梅;胡江川;张宁;姜莉;戴红岭 |
| 分类号 |
B24B13/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B13/00(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种环摆抛双面抛光机，包括下盘(1)、套圈(2)、分离器(3)、上盘(4)和主臂(7)，套圈(2)与主动轮(6)、限位轮(12)外切，其特征在于，还包括辅机座(5)和偏心轮(9)，上盘(4)的上端经主臂(7)与辅机座(5)连接，上盘(4)上设有辅臂(8)，辅臂(8)外端与偏心轮(9)连接，偏心轮(9)与辅机座(5)连接。 |
| 地址 |
610041 四川省成都市高新区科园一路3号 |
