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发明名称 Illumination system for a microlithographic contact and proximity exposure apparatus
摘要
申请公布号 EP2253997(A3) 申请公布日期 2010.12.08
申请号 EP20090169158 申请日期 2009.09.01
申请人 SUESS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH 发明人 VOELKEL, REINHARD;VOGLER, UWE;BICH, ANDREAS;WEIBLE, KENNETH J.;EISNER, MARTIN;HORNUNG, MICHAEL;KAISER, PAUL;ZOBERBIER, RALPH;CULLMANN, ELMAR
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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