离子源气体反应器

摘要

本发明揭示一种离子源，其包括气体反应腔室。本发明还包括一种方法，所述方法通过将气态馈送材料供应到所述气体反应腔室而将所述馈送材料转化成四聚物、二聚物、其它分子或原子种类，在所述气体反应腔室中所述馈送材料转化成待供应到所述离子源且加以离子化的合适气体种类。更明确地说，所述气体反应腔室经配置以接收呈气态形式的氢化物和其它馈送材料(例如，AsH3或PH3)，且产生供用在离子植入中的各种分子和原子种类，此为迄今未知的。在本发明的一个实施例中，所述气体相对均匀地受热以对所产生的分子或原子种类提供相对精确的控制。在本发明的替代实施例中，所述气体反应腔室使用催化表面将所述馈送气体转化成植入所需的不同源气体种类，例如氢化物转化成四聚物分子。在本发明的又一实施例中，所述气体反应腔室经配置以使得在升高到适合温度的适合材料(包括玻璃或金属，例如，W、Ta、Mo、不锈钢、陶瓷、氮化硼或其它难熔金属)存在的情况下发生催化(或热解)反应。

主权项

一种用于离子植入装置的离子源，所述离子源包含：离子化腔室，用于接收馈送气体，所述离子化腔室具有用于提取所述馈送气体的离子的提取孔；气体馈送入口，用于接收馈送气体源；气体反应腔室，其与所述气体馈送入口流体连通，将所述馈送气体转化成可用种类；以及离子化系统，其将离子化腔室内的所述馈送气体所述馈送气体离子化，且从所述提取孔提取出关注的离子。