| 发明名称 | 通过等离子体蒸发的电镀方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于相继基体的等离子体处理方法和系统，这些基体包括一个或多个钢产品，其中，基体一个接一个地被运输穿过至少一个等离子体处理区域，其特征在于，用来在处理区域中产生等离子体的电功率根据当基体行进穿过这个区域中时存在于这个处理区域中的基体的面积而变化。 | ||
| 申请公布号 | CN101910447A | 申请公布日期 | 2010.12.08 |
| 申请号 | CN200880122360.1 | 申请日期 | 2008.11.07 |
| 申请人 | 工业等离子体服务与技术IPST有限公司 | 发明人 | P·范登布兰德 |
| 分类号 | C23C2/36(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C2/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 郭思宇 |
| 主权项 | 一种用于相继基体的等离子体处理方法，这些基体包括一个或多个钢产品，在该方法中，将基体一个接一个地运输穿过至少一个等离子体处理区域(3、4、5)，其特征在于，，用于在处理区域(3、4、5)中产生等离子体的电功率根据当基体行进穿过这个处理区域(3、4、5)时存在于这个处理区域(3、4、5)中的基体的面积而变化。 | ||
| 地址 | 瑞士莱茵瀑布诺伊豪森 | ||