发明名称 |
一种狭缝喷嘴 |
摘要 |
本发明提供一种狭缝喷嘴,适用于在被处理物表面涂布液体,狭缝喷嘴包含一间隔片,其两侧面分别具有一凹陷,其包含二导流孔,分设于间隔片两端处,一第一喷嘴基体,设于间隔片一侧,一第二喷嘴基体,相对第一喷嘴基体设于间隔片另一侧,其中凹陷分别与第一喷嘴基体和第二喷嘴基体与间隔片的接合面各形成一狭缝,这样就形成了双狭缝喷嘴。此外也可使用二间隔片,以形成三狭缝喷嘴。使用本发明可以有效提升喷嘴的液体吐出量,改善涂布作业时间,减少产品变异,提高产品缺陷检测能力。 |
申请公布号 |
CN101879484A |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN201010194098.0 |
申请日期 |
2010.05.28 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
陈新豪;陈枝汶;陈冠宇;罗信翔;夏玮俊;高乃智;吴文群;纪伯儒 |
分类号 |
B05B1/30(2006.01)I;B05B1/00(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I |
主分类号 |
B05B1/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
曾红 |
主权项 |
一种狭缝喷嘴,适用于在被处理物表面涂布液体,其特征在于,所述狭缝喷嘴包含:一间隔片,其两侧面分别具有一凹陷,所述间隔片包含:二导流孔,分设于所述间隔片两端处;一第一喷嘴基体,设于所述间隔片一侧;以及一第二喷嘴基体,相对所述第一喷嘴基体设于所述间隔片另一侧,其中所述凹陷分别与所述第一喷嘴基体和所述第二喷嘴基体与所述间隔片的接合面各形成一狭缝。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 |