| 发明名称 | 离子源、系统和方法 | ||
| 摘要 | 公开了离子源、系统和方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101882551A | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN201010151355.2 | 申请日期 | 2006.11.15 |
| 申请人 | 阿利斯公司 | 发明人 | 比利·W·沃德;约翰·A·诺特四世;路易斯·S·法卡斯三世;兰德尔·G·珀西瓦尔;雷蒙德·希尔 |
| 分类号 | H01J37/08(2006.01)I;H01J37/252(2006.01)I;H01J37/28(2006.01)I;H01J37/305(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种系统，包括：能够与气体相互作用从而产生在样品的表面具有3nm或更小的尺寸的斑点尺寸的离子束的离子源。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||