发明名称 |
一种高精度的恒姿态曲面调焦装置及其方法 |
摘要 |
本发明是一套曲面调焦装置和调焦方法。本发明调焦装置由分束器、光刻物镜、普通物镜、针孔、调焦探测器等组成。其最大特点是在曲面调焦中可以保持曲面基底和光刻物镜两者姿态不变,而能实现高精度调焦。本发明调焦方法是通过对相位误差信号进行跟踪调节,使光刻物镜实时处于准焦状态。其最大特点是调焦可靠、有效,调焦精度高。该装置和方法结构简单,成本低,调焦精度达到亚微米,使其很适用于曲面激光光刻中的调焦,或其它对曲面进行精确调焦的场合,也适用于物体表面三维微形貌的高精度检测等领域。 |
申请公布号 |
CN101063741B |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN200710068771.4 |
申请日期 |
2007.05.24 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
梁宜勇;罗剑波;田丰;陈龙江;杨国光 |
分类号 |
G02B7/28(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B7/28(2006.01)I |
代理机构 |
杭州求是专利事务所有限公司 33200 |
代理人 |
张法高 |
主权项 |
一种高精度的恒姿态曲面调焦装置,其特征在于,光刻物镜(3)绑定在压电陶瓷(2)上,光刻物镜光路上设有分束器(4),分束器与光刻物镜的光轴成45度夹角,在分束器成45度夹角的光轴上依次设有检测物镜(8)、针孔(7)、调焦探测器(6),针孔(7)绑定在调制机构(5);平行光束入射至分束器(4),入射的平行光束经分束器(4)透射后入射至光刻物镜(3),光刻物镜将入射光聚焦至待测曲面基片(1),待测曲面基片将光反射回至光刻物镜(3),再入射至分束器(4),分束器将光反射至检测物镜(8),检测物镜将光束聚焦至针孔(7),经针孔再入射至调焦探测器(6)。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市浙大路38号 |