| 发明名称 | 原子层沉积法 | ||
| 摘要 | 本发明提供使用原子层沉积方法以保护性材料的薄膜选择性地涂覆包括第一和第二材料的基材表面的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101883877A | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN200880118748.4 | 申请日期 | 2008.10.30 |
| 申请人 | HCF合伙人股份两合公司 | 发明人 | 阿里莱尼·达默龙 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 对在其表面上包括传导性区域和非传导性区域的基材的非传导性区域进行表面涂覆的方法，所述方法包括使用原子层沉积法以涂覆材料在足以在所述基材表面的所述非传导性区域上选择性地形成薄膜的条件下形成薄膜层。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||