| 发明名称 | 微波等离子体处理装置及其制造方法、等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供在处理容器内使与等离子体接触的面平坦化的微波等离子体处理装置(100)：具备处理室(U)、在处理室(U)内透过微波的多个电介质零件(31)、支撑电介质零件(31)的梁(27)、从处理室(U)的外部将梁(27)固定在处理容器上的固定单元。固定单元具有从处理室(U)的外部贯通设置在处理室(U)上的多个贯通孔(21b)与梁(27)螺合的多个阳螺栓(56)。通过多个螺栓(56)从处理室(U)的外部将梁(27)固定在处理室(U)上，使与等离子体接触的梁(27)的面(S)平坦化。因此能够避免电场能量集中在面(S)的凸部、在面(S)凹部发生异常放电。不会使气体过度离解，能够通过均匀等离子体在基板(G)上形成质量好的膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101048029B | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN200710091321.7 | 申请日期 | 2007.03.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 堀口贵弘 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01)I;H05H1/30(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;C23C16/517(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种微波等离子体处理装置，其特征在于，其通过利用微波使气体等离子体化，对被处理体进行等离子体处理，包括：处理室；在所述处理室内透过微波的电介质；支撑所述电介质的梁；和从所述处理室的外部将所述梁固定在处理室上的固定单元，所述处理室具有多个贯通孔，所述固定单元具有从所述处理室的外部贯通设置在所述处理室上的多个贯通孔而与所述梁螺合的多个螺栓。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||