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发明名称 DUAL MODE ION SOURCE FOR ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 EP1945832(A4) 申请公布日期 2010.11.10
申请号 EP20060827531 申请日期 2006.11.06
申请人 发明人
分类号 C23C16/00;H01J37/08 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
主权项
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