发明名称 |
激光辐照方法,用于制造半导体器件的方法,以及激光辐照系统 |
摘要 |
在一种激光辐照系统中,由于高速移动笨重的扫描工作台,因此导致振动。当振动传送到装配有形成光束斑点和系统的光学系统的振动绝缘体时,在基板上形成的激光辐照轨迹就会沿振动的反射波动,该轨迹就不再是线性。本发明的一个目的是抑制因这种振动造成的辐照轨迹的波动。在作为要被辐照表面的半导体膜123之上提供光屏蔽膜122。当提供光屏蔽膜122时,就会显著地遮蔽具有低能量密度的一部分入射光束121。如上所述,提供光屏蔽膜122就能够增大半导体膜中的晶粒尺寸,而不用形成类似于用准分子激光器进行激光晶化的情况下形成的晶体的状态。为了使衍射影响最小,优选光屏蔽膜122尽可能薄。 |
申请公布号 |
CN1518077B |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN200410007410.5 |
申请日期 |
2004.01.21 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
田中幸一郎;矶部敦生;森若智昭 |
分类号 |
H01L21/324(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I;H01S3/16(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/324(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
王岳;梁永 |
主权项 |
一种激光辐照方法,用于将光束斑点辐照到要被辐照物体,包括:将从激光振荡器发射的激光束整形为要被辐照表面上的光束斑点;以及当辐照光束斑点时,相对地在光束斑点的短轴方向对扫描工作台进行扫描,其中光束斑点具有线性形状和椭圆形状的其中一种形状,其中在扫描工作台之上提供的要被辐照物体的表面是要被辐照表面,其中当被辐照物体和光束斑点的位置被控制以便利用要被辐照物体之上提供的光屏蔽膜来遮蔽一部分光束斑点时,辐照光束斑点,以及其中该部分光束斑点比光束斑点的中心具有更低的能量密度。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |