发明名称 |
Method and apparatus for X-ray irridiation having improved throughput and dose uniformity ratio |
摘要 |
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申请公布号 |
EP1513163(B1) |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
EP20040447197 |
申请日期 |
2004.09.03 |
申请人 |
ION BEAM APPLICATIONS S.A. |
发明人 |
STICHELBAUT, FREDERIC |
分类号 |
G21K5/00;A61L2/08;B65B55/16;G21K5/04 |
主分类号 |
G21K5/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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