发明名称 |
激光辐照装置、激光辐照方法、以及半导体器件制造方法 |
摘要 |
本发明的名称是“激光辐照装置、激光辐照方法、以及半导体器件制造方法”。提供一种方法和装置,用来在辐照表面上恒定地建立激光束的能量分布,将激光束均匀地辐照到整个辐照表面。本发明还提供在工艺中包括该激光辐照方法的半导体器件的制造方法。本发明的特征是用光学系统将多个激光束在辐照表面上的形状形成为椭圆形或矩形,在辐照表面沿第一方向移动的同时,发射多个激光束,且辐照表面沿第二方向移动,以及辐照表面在沿与第一方向相反的方向移动的同时,发射多个激光束。在辐照表面沿第一方向移动的同时可以发射多个激光束,并在辐照表面沿与第一方向相反的方向移动的同时,可以发射多个激光束,以及辐照表面也可以沿第二方向移动。 |
申请公布号 |
CN101879658A |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN201010201368.6 |
申请日期 |
2002.08.02 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
田中幸一郎 |
分类号 |
B23K26/00(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
朱海煜;李家麟 |
主权项 |
一种激光辐照装置,它包含:多个激光器;隔离器;用来将多个激光束在辐照表面上的形状形成为椭圆形或矩形的装置;以及用来沿第一方向和与第一方向相反的方向移动多个激光束在辐照表面上的辐照位置,并沿第二方向移动多个激光束在辐照表面上的辐照位置的装置。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |