| 发明名称 | 一种硅片清洗剂及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片清洗剂及其使用方法，包括氧化剂、有机碱、渗透剂和水，各组分的体积比是氧化剂∶有机碱∶渗透剂∶水＝0.02～0.1∶1～4∶0.5～1∶30～50；所述的氧化剂的标准电极电位不小于1.7V，是臭氧或双氧水；所述的有机碱选自以下组分中的一种或多种：三乙醇胺、醇钠、烃基钠、烃基锂、氨基锂及季铵碱；所述的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠。本发明使用的清洗剂操作简单，没有给硅片清洗增加繁琐步骤，成本低，无污染，不会带入污染硅片的杂质，对环境无害。 | ||
| 申请公布号 | CN101880609A | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN201010214595.2 | 申请日期 | 2010.06.30 |
| 申请人 | 国电光伏(江苏)有限公司 | 发明人 | 杨福山;叶淳超;夏恒军 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01)I;C11D7/34(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;C11D7/04(2006.01)I;C11D7/60(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人 | 柏尚春 |
| 主权项 | 一种硅片清洗剂，其特征在于：包括氧化剂、有机碱、渗透剂和水，各组分的体积比是氧化剂∶有机碱∶渗透剂∶水＝0.02～0.1∶1～4∶0.5～1∶30～50；所述的氧化剂的标准电极电位不小于1.7V，是臭氧或双氧水；所述的有机碱选自以下组分中的一种或多种：三乙醇胺、醇钠、烃基钠、烃基锂、氨基锂及季铵碱；所述的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠。 | ||
| 地址 | 214213 江苏省宜兴市经济开发区凯旋路25号 | ||