发明名称 一种具有次推进剂分布式喷注机构的爆震室
摘要 本实用新型涉及一种具有次推进剂分布式喷注机构的爆震室,其特征在于:爆震室为内外两个圆筒形成容腔的双层圆筒结构,一端为主推进剂喷注面板,另一端为敞口结构;所述的爆震室的内筒壁面上设有等螺距的半圆形螺旋槽,螺旋槽的螺距与爆震室直径相等;在螺旋槽底部,设有与容腔相通的喷注孔;在螺旋槽中嵌入螺旋,螺旋穿过喷注面板,沿着半圆形螺旋槽由喷注面板绕至敞口端。本实用新型提出的一种具有次推进剂分布式喷注机构的爆震室,能很好地解决当主、次推进剂同轴喷注时,主、次推进剂无法充分均匀混合的问题。
申请公布号 CN201627650U 申请公布日期 2010.11.10
申请号 CN200920274835.0 申请日期 2009.12.29
申请人 西北工业大学 发明人 范玮;王育虔;彭畅新;严传俊;谢开成
分类号 F02K9/62(2006.01)I;F02K9/44(2006.01)I 主分类号 F02K9/62(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 王鲜凯
主权项 一种具有次推进剂分布式喷注机构的爆震室,其特征在于包括爆震室和螺旋;爆震室为内外两个圆筒形成容腔的双层圆筒结构,一端为主推进剂喷注面板,另一端为敞口结构;所述的爆震室的内筒壁面(8)上设有等螺距的半圆形螺旋槽(3),螺旋槽(3)的螺距与爆震室直径相等;在螺旋槽底部,设有与容腔相通的喷注孔(4);在螺旋槽(3)中嵌入螺旋(5),螺旋(5)穿过喷注面板,沿着半圆形螺旋槽由喷注面板绕至敞口端;所述的螺旋(5)上设有若干个次喷注孔(6);所述喷注孔(4)或次喷注孔(6)的直径小于0.5mm,两孔中心间距大于孔径的二倍;所述的喷注孔(4)与次喷注孔(6)数量相等。
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