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发明名称
FOTORESIST-ENTFERNUNGSZUSAMMENSETZUNG FÜR DIE HALBLEITERHERSTELLUNG
摘要
申请公布号
AT484774(T)
申请公布日期
2010.10.15
申请号
AT20060783522T
申请日期
2006.08.05
申请人
TECHNO SEMICHEM CO., LTD.
发明人
KIM, HYUN TAK;PARK, SEONG HWAN;LIM, JUNG HUN;KIM, SUNG BAE;JEONG, CHAN JIN;BAEK, KUI JONG
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
主权项
地址
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